上海市环境保护局上海市质量技术监督局ICS上海市地方标准DB31/374—2006半导体行业污染物排放标准Thedischargestandardsofpollutantsforsemiconductorindustry（发布稿）2006-××-××发布2007-02-01实施DB31发布目次前言...................................................................................II1范围..................................................................................12规范性引用文件........................................................................13术语和定义............................................................................14技术内容..............................................................................25监测..................................................................................56标准的实施与监督......................................................................9前言为贯彻《中华人民共和国环境保护法》、《中华人民共和国水污染防治法》、《中华人民共和国大气污染防治法》、《中华人民共和国海洋环境保护法》，加强半导体企业污染物的排放控制，保障人体健康，维护生态平衡，结合上海市实际情况，制定本标准。本标准主要有以下特点：1）适用于半导体企业水污染物、大气污染物排放的管理；2）水污染物排放根据功能区执行分级标准；3）大气污染物排放不根据功能区进行分级；4）对现有半导体企业规定达到挥发性有机物（VOCs）排放标准的时限，对其余污染源不再按建设时间规定排放限值。半导体企业的噪声控制、固体废物控制按国家和本市的有关规定执行。本标准实施之日起，半导体企业水污染物排放按本标准执行，不再执行DB31/199-1997《污水综合排放标准》；半导体企业大气污染物排放按本标准执行，不再执行GB16297-1996《大气污染物综合排放标准》。本标准为首次发布。本标准由上海市环境保护局提出并归口。本标准由上海市环境科学研究院和上海市集成电路行业协会负责起草。本标准由上海市人民政府2006年10月13日批准。本标准由上海市环境保护局负责解释。半导体行业污染物排放标准1范围本标准规定了半导体企业的水污染物和大气污染物排放标准值。本标准适用于半导体企业的水污染物排放管理、大气污染物排放管理，以及半导体企业建设项目环境影响评价、建设项目环境保护设施设计、竣工验收及其投产后的污染控制与管理。2规范性引用文件下列标准和本标准表5、表6所列分析方法标准及规范所含的条款通过本标准的引用而成为本标准的条款，与本标准同效。GB3095环境空气质量标准GB3097海水水质标准GB3838地表水环境质量标准GB/T12997水质采样方案设计技术规定GB/T12998水质采样技术指导GB/T12999水质采样样品的保存和管理技术规范GB13271锅炉大气污染物排放标准GB/T16157固定污染源排气中颗粒物测定与气态污染物采样方法GB16297大气污染物综合排放标准HJ/T91地表水和污水监测技术规范HJ/T92水污染物排放总量监测技术规范当上述标准和规范被修订时，应使用其最新版本。3术语和定义下列术语和定义适用于本标准：3.1半导体企业semiconductorindustry指从事半导体分立器件或集成电路的制造、封装测试的企业。3.2特殊保护水域specialprotectedwaterarea指经国家或上海市人民政府批准的自然保护区范围内水域；GB3838中II类水域；由本市各区、县人民政府规定的居民集中式生活饮用水取水口卫生防护带水域。3.3废气处理设施exhaustgascontroldevices指处理废气的湿式洗涤塔、焚烧塔、吸收塔、冷凝塔或其他设备，但不包括工艺中设备自带的预处理设备。3.4密闭排气系统closedventsystem指可将设备或设备组件排出或逃逸的空气污染物捕集并输送至废气污染防治设备，使传送的气体不直接与大气接触的系统。3.5现有污染源和新污染源existingpollutuionsourceandnewpollutionsource现有污染源指2007年2月1日前建设的半导体企业。新污染源指2007年2月1日起建设（包括改、扩建）的半导体建设项目。建设项目的建设（包括改、扩建）时间，以环境影响报告书（表）批准日期为准。4技术内容4.1...