三氟化氮的市场概况及营销策暁摘要：随着三氟化氮（NF3）产品使用范围逐渐推广，国内对其市场状况给予了诸多关注。笔者结合NF3的制备工艺，在人量的市场状况分析下，提出NF3产品的营销策略，包括•产品策略、价格策略和系统化的市场营销策略。关键词：三氟化氮；市场；营销；制备工艺；：TQ564文献标识码：A：1三氟化氮制备工艺介绍三氟化氮（NF3）在微电子制造中作为一种优良的等离子蚀刻气体和CVD室清洗气体，同时在芯片制造、高能激光器方面得到了大量运用。NF3气体广泛应用与高能激光、半导体技术及化学气相沉积等领域，具有很好的应用前景。但作为一种电子气体，它对NF3气体的纯度有较高的要求，一般其纯度不得低于99.99%,并且其中的关键性杂志如CF4的含量不得高于50PPm,这就使得制备高纯度的NF3气体有较大的难度。制备NF3气体的方法基本上可以分为化学合成法及电解法两种，且它们都有很多种实现方法，比较经典的化学合成法是用NH3与F2反应制得NF3气体，而经典的电解法是用NH4F-XHF（或加少量KF）为电解液体系电解制备NF3气体。一般，化学合成法具有合成反应较安全的特点，其缺点是合成反应后的产物中NF3气体的含量较电解法低，而且其CF4的含量一般都很高（在0.---本文于网络，仅供参考，勿照抄，如有侵权请联系删除---3%以上）；而采用NII4F-XIIF（或加少量KF）为电解液体系电解制备NF3气体具有较高的产率及纯度，比较有利于提纯制备高纯度的NF3气体，其缺点是电解过程屮易发牛爆炸现象。通常，以NH4F-XHF（或加少量KF）为电解液体系电解制备NF3气体是采用碳为阳极，碳材料阳极具有使用寿命长、点解废渣少的优点，但它也有一个严重的缺点，电解产生的NF3气体中CF4的含量较高（一般高于500PPm）o由于CF4气体的沸点与NF3气体的沸点只相差1°C,且它们的英他物理、化学性质也极为接近，分离NF3气体的难度及牛产成本，不利于工业化生产高纯度的NF3气体。阳极点解气中CF4气体杂质的含量主要与所使用的阳极材料有关。一般用碳做阳极材料时，由于三氟化氮电解槽在点解过程中，阳极会有一定的腐蚀，被腐蚀的碳与电解时产生的F结合生成CF4气体，从而增加了阳极电解气屮CF4朵质的含量。为去除阳极电解气屮的NH4F及HF等高沸点杂质，传统的方法是用固体碱吸收或用碱液洗涤,这两种方法都耍经常更换试剂，影响了生产的连续运行，操作比较烦琐。2三氟化氮的市场概况过去，NF3只是主要在集成电路制造中得到应用，而近年NF3已开始大量用于液晶显示器和光伏（薄膜太阳能电池）等领域。这也使得NF3的产销量在今年得到人幅度的扩人，给这个产品市场与技术的发展注入了活力。据统计，2011年世界NF3的产销量以增加到8410吨，其产能扩大到11210吨。2005年〜2011年的七年间世界NF3的实际生产量平均增长率为19.4%,消费量如表1所示。[1](1)三氟化氮的应用领域---本文于网络，仅供参考，勿照抄，如有侵权请联系删除---我国是一个半导体产业、光伏产业、显示器产业生产及应用的大国，在发展这些新兴产业的同时，必不可缺少的需要发展它所用的NF3O半个多世纪以来，我国国内企业在NF3的开发生产方面相当薄弱，在我国的多个应用领域中所使用的NF3,很大部分还依赖从国外进口，发展我国高纯度制造业已经成为当务之急、势在必行。表12003-2009年三氟化氮消费量统计据有关方面统计，目前15%~20%的NF3在液晶显示器市场中用于清洗剂；65%~70%的NF3用于半导体清洗和蚀刻。NF3是超大规模集成电路液晶显示器件、半导体发光器件和半导体材料制造过程不可缺少基础性支撑原材料，液晶显示器的快速发展成为NF3需求的主耍推动力，NF3目前无论在世界上，还是我国国内，都有着很大发展空间。光伏产业近几年得到高速发展，光伏化学品也迎來大发展时代。美国弗若斯特沙利文咨询公司近日发表的研究报告称，2005年全球光伏化学品市场规模仅为1124亿美元,2008年就增至3106亿美元，预计未來该市场规模将继续扩大，至2015年该市场规模将猛增至28108亿美元。[2](2)价格趋势前些年來由于NF3强劲需求，产品价格居高不下，但是近年來NF3产能增长非常迅速，仍将不可避免地冲击其消费市场，导致产品价...