常压质谱对氨基酸自组装膜快速检测研究

,直接将氨基酸用作防腐剂的相关研究也已开展[6]。目前,常压质谱对氨基酸自组装膜快速检测研究#王欣怡,韩佳颖,欧阳津,那娜**(北京师范大学化学学院,北京市100875)51015摘要:合成了对铜起缓蚀防腐作用的四种氨基酸自组装膜(精氨酸、甲硫氨酸、谷氨酸和苏氨酸自组装膜),并且采用DESI-MS和另外两种LTP-MS的常压质谱方法对合成的四种氨基酸自组装膜进行研究,成功检测出金属铜表面的四种自组装单分子膜,得到相应的分子离子峰和特征碎片峰。常压质谱的自组装膜检测方法具有常压、快速、原位、微损分析等优势,能直接获得表面分子的结构信息。关键词:常压质谱离子源;自组装单分子膜;铜自组装膜;氨基酸:0657RapidAnalysisofSelf-assembledMonolayersofAminoAcidsUsingAmbientMassSpectroscopyWANGXinyi,HAN激aying,OUYANG激n,NANa(CollegeofChemistry,Bei激ngNormalUniversity,Bei激ng100875)Abstract:Thedirectandrapiddetectionofself-assembledaminoacidmonolayersoncoppersufacewascarriedout.Differentkindsofself-assembledaminoacidmonolayerswereprepared,whichwereconsequentlysubjecttoambientmasssepctrometrydetecion.Theambientmass202530techniquesofDESI-MSandothertwoLTP-MSwerepreparedinthedetecion.Asresulted,theself-assemblymonolayersofarginine,methionine,glutamicacidandthreoninewerewelldetected,whichshowedthecorrespondingmolecularionsandcharacteristicfragmentpeaks.Asdemonstrated,theambientmassspectrometryhasobtainedthemolecularstructureinformationofself-assembledmonolayerswitharapid,in-suitdetection.Keywords:Atmosphericmassspectrometry;Ionsource;Aminoacids;Self-assembledmonolayers0引言在生产金属铜及其合金过程中,需向清洗铜锈或沉积污垢的酸中加入缓蚀剂(corrosioninhibitor)。氨基酸类化合物通过在铜表面的化学吸附和自组织而自发形成[1]覆盖密度高,表面结构高度有序,具有良好的定向性的自组装单分子膜(selfassembledmonolayers,SAMs),从而起到缓蚀和防腐作用。其无毒、易降解、水溶性好、经济、高效的特点,已在缓蚀剂研究领域中备受关注[2-5]国内外研究者已尝试的对自组装膜进行表征的分析方法包括(但不仅限于)扫描电子显微镜3540(scanningelectronicmicroscopy,SEM),全反射红外光谱(reflectanceinfraredspectroscopy,IR),X-射线光电子能谱(X-rayphotoelectronspectroscopy,XPS),接触角测量技术(contactanglemeasurements)和质谱技术等。但这些方法具有各自的局限性,也都无法提供对于SAMs非常重要的直接的分子结构鉴定信息,并且需要一定的样品前处理步骤,方法比较繁琐,无法实现原位检测。迄今为止,最有效的直接提供SAMs表面分子结构信息的技术是质谱方法,如二次离子质谱(secondary-ionmassspectrometry,SIMS),但成本极高,与商品化仪器联基金项目:教育部高等学校博士学科点专项科研基金资助课题(No.20100003120014)作者简介:王欣怡(1988-),女,北京师范大学本科生,目前就读美国俄亥俄州立大学通信联系人:那娜(1980-),女,副教授,研究方向:光谱成像及芯片分析.nana@bnu.edu-1-。用也存在困难[7]。其他已报道的检测SAMs的质谱方法,也大多只能从离子化反应产物中提供非直接的表面分子信息[8]。常压质谱离子源作为新型的解吸电离技术(desorption/ionization,DI),其快速发展已引发质谱领域的第二次重要变革,近期研究较多的离子源主要包括(但不仅限于)DART、解吸电喷雾电离源(desorptionelectrosprayionization,DESI)、介质阻挡45505560657075放电离子化源(DielectricBarrierDischargeIon,DBDI)和低温等离子体(lowtemperatureplasma,LTP)辅助常压离子源解吸电离源等[9-12]。目前有关DESI-MS和LTP的应用研究非常活跃,包括反应过程监控、药物分析、爆炸物检测、农药残留物分析和表面成像扫描等多个领域[13-16],但用于自组装膜的检测还很少见。最近,本课题组利用LTP和DESI分别实现了对氨基苯硫酚包裹金属纳米粒子多层膜[17],十二烷基硫醇类单层膜的快...

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