关于液晶面板行业生产设备清洗项目环保问题的探讨张丽梅刘宇摘要：文本对液晶面板生产行业的下游清洗企业的清洗膜层、清洗工艺、污染物产排情况和治理措施进行了介绍，并对该类企业项目生产过程中的若干环保问题进行了探讨。关键词：液晶面板行业;清洗;环保问题：X78：A：2095-672X（2019）07-00-02DOI：10.16647/j.cnki.cn15-1369/X.2019.07.032Abstract：Thispaperintroducethecleaningfilm，process，pollutantproductionanddischarge、ControlmeasuresofequipmentcleaningindustryinLCDpanelindustry，anddiscussproblemsofEnvironmentalissues.Keywords：LCDpanelindustry;Clean;Environmentalissues1液晶面板生产行业现状及其设备清洗的必要性二十一世纪是信息时代，新型显示技术是电子信息行业的支撑产业之一。液晶显示面板在整个电子信息产业链当中处于高端位置，也是计算机以及移动通信中断等数字化产品当中较为关键的部件[1]，因此涌现出了多家从事液晶面板生产的企业。液晶面板根据不同的材质和制造技术主要分为薄膜晶体管液晶显示器（TFT-LCD）、有机发光二极管（OLED）、有源矩阵有机发光二极体面板（AMOLED）等多种形式。這些面板生产工序基本分为阵列制程、彩膜制程、成盒制程、模组组装。上述生产工艺中的关键设备，如物理气象沉积（PVD）、化学气相沉积（CVD）、刻蚀（ETCH）、蒸镀、旋涂等工艺设备在长期使用中，设备腔室内表面将溅射或反应生成的膜层达到一定厚度后，将会影响正常生产，需要委托第三方清洗干净后再返回企业再循环使用。如何高效的将半导体器件表面清洁干净并达到相应的使用标准，已经成为了现阶段半导体制造过程中需要及时解决的问题[2]。2设备膜层介绍及清洗工艺某从事该清洗行业的企业涉及到膜层按照清洗对象的不同，分为PVD设备内腔室的膜层（铝膜、铜膜、氧化钛膜）、CVD设备内腔室膜层（二氧化硅膜、氧化钛膜）、刻蚀设备内腔室膜层（氧化钛、有机物、二氧化硅）、蒸镀设备内腔室膜层（有机物、氟化锂、银）等。根据这些膜层的理化性质及设备基材的不同，清洗方式分为物理清洗和化学清洗，其中化学清洗按照药剂成分的不同分为有机清洗、酸洗、碱洗，具体介绍如下：设备部件采用浸泡式置于清洗液中浸泡清洗，设备部件表面的膜层将会与清洗液发生化学反应，去除设备部件表面膜层，取出再用纯水清洗干净，达到洗净的目的。药剂浸泡清洗过程中将会发生各种化学反应，具体介绍如下：氢氧化钾清洗：氢氧化钾与铝膜发生反应生成偏铝酸钾，偏铝酸钾溶于水中，反应方程式为：氨水+双氧水清洗：氨水作为碱性环境，增强了双氧水的氧化性，双氧水与氮化钛反应生成Ti（OH）4胶体，Ti（OH）4体与氨水络合成为絮状沉淀，反应方程式为：硝氟酸清洗：SiO2溶解在硝氟酸溶液中，在硝酸加强氧化的作用下，SiO2与氢氟酸生成四氟化硅，化学反应过程如下：氢氧化钠清洗：设备部件上残留的光刻胶主要成分为树脂、溶剂，为酸性物质。氢氧化钠为强氧化物质，具有腐蚀性，可与酸性的光刻胶发生反应，使光刻胶从泵件表面剥离而达到清洗的目的。有机溶剂清洗：NMP和丙酮均为极性溶剂，能溶解大部分极性的有机物。因此设备部件表面的有机发光材料可溶解于NMP中，光刻胶可溶解于丙酮中。3清洗工艺的污染物产生情况及治理工艺3.1废水污染物的产生情况及治理工艺由于清洗膜层包括金属膜、有机物膜，清洗的药剂有酸碱试剂及有机试剂，因此清洗过程中产生的废水按照种类不同分为有机废水和无机废水。有机废水中含有较多的有机物呈悬浮状，因此COD、BOD、SS含量均较高。无机废水中除水质呈弱酸性或弱碱性外，还含有大量的金属物质，如Ag、Cu，此外SS较高，但水中的COD和BOD的浓度较有机废水更低。根据水质不同，应采取废水分类分质处理的原则。有机废水处理：有机溶剂NMP和丙酮作为清洗液清洗后含有杂质，需先经蒸馏回收后，再与其他有机废水一同进入有机废水处理系统处理，以减轻污水站处理负荷。该有机废水处理系统包括前混凝沉淀、高锰酸钾酸钾氧化处理、进一步混凝气浮、终端过滤系统四道工序。经处理后的有机废水可达《污水综合排放标准》（GB8978-1996）三级标准。无机废...