磁控溅射法制备耐冲蚀钛合金复合涂层研究进展

磁控溅射法制备耐冲蚀钛合金复合涂层研究进展田贵双I戈超2张俊秋彳(武汉理工人学机屯工程学院湖北武汉430070)(吉林大学工程仿生教冇部重点实验室,吉林长春130025)摘要:木文介绍了磁控溅射的基本原理,以及几种典型的磁控溅射镀膜技术(反应溅射、非平衡磁控溅射、等离子体加強磁控溅射技术);并介绍了利用磁控溅射技术制备钛合金耐冲蚀涂层的新进展。关键词:磁控溅射;耐冲蚀;钛合金:RecentstudiesonerosionresistancetitaniumalloycompositecoatingsdepositedbymagnetronsputteringmethodTianGuiShuang1GeChao2ZHangJunQiu2(SchoolofMechanicalandElectronicEngineering.WuhanUniversityofTechnology,WuHan.430070,China)(Key.LaboratoryforBionicsEngineeringofMinistryofEducation,激linUniversity}Changcltun130025,China)Abstract:Inthispaper,thebasicconceptmagnetronsputteringmethodisreviewed・Andseveraltypicalmagnetronsputteringtechnologyarepresented,suchasReactiveMagnetronSputtering,UnbalancedMagnetronSputteringandPlasmaEnhancedMagnetronSputtering・oferosionwearweredescribed.Recentprogressesinresearchonerosionresistancetitaniumalloycompositecoatingsdepositedbymagnetronsputteringmethod,wassummarized・Keywords:magnetronsputter;erosionresistance;titaniumalloy基金项目:国家自然科学基金重点项目(50635030):国家973计划前期研究专项(2007CB616913)资助;国家留学基金委留学回国人员科研启动基金(3C108K331463);吉林大学研究生创新基金资助项目(20091015)作者简介:出贵双(1988〜),女,本科牛.研究方向:功能薄膜材料研究戈超(1985〜),男,硕士研究生.研究方向:仿生功能材料、功能薄膜材料研究emai1:gechaol80402@tom・com张俊秋(1979〜),男,博士研究生.研究方向:工程仿生、生物表面仿生工程、功能薄膜材料研究.email:zhangjunqiu2005@1630前言磁控溅射技术在薄膜制备领域的应用十分广泛,可以制备工业上所需要的各利密膜,如超硬薄膜、耐腐蚀耐摩擦薄膜、超导薄膜、磁性薄膜、光学薄膜,以及各种具有特殊电学性能的薄膜等。冲蚀磨损广泛存在于机械、冶金、能源、化工、航天等许多工业部门,成为引起材料破坏或设备失---本文来源于网络,仅供参考,勿照抄,如有侵权请联系删除---效的一个重耍原因。钛合金由于比强度高,韧性和耐蚀性好而广泛应用于航空航天工业中。采用PVD技术,如磁控溅射技术,是现在制取高性能薄膜应用最广泛的方法。本文介绍了利用磁控溅射技术制备钛合金耐冲蚀涂层的新进展。1磁控溅射简介磁控溅射技术诞生于20世纪70年代初期,并随后在电学膜、光学膜和能源、机械工业等产业化领域得到广泛应用。磁控溅射是由二极溅射基础上发展而來,在靶材表而建立与电场止交的磁场,形成11•:交电磁场。解决了二极溅射沉积速率低,等离子体离化率低等问题。因此,磁控溅射又称为高速、低温的溅射。磁控溅射技术已成为目前镀膜工业主要方法之一,与其它镀膜技术相比具有如下特点山2】:可制备成靶的材料广,儿乎所有金属,合金和陶瓷材料都可以制成靶材;在适当条件下多元靶材共溅射方式,可沉积配比精确恒泄的合金;在溅射的放电气氛屮加入氧、氮或其它活性气体,可沉积形成靶材物质与气体分子的化合物薄膜;通过精确地控制溅射镀膜过程,容易获得均匀的高精度的膜厚;通过离子溅射靶材料物质由固态•直接转变为等离子态,溅射靶的安装不受限制,适合于大容积镀膜室多靶布置设计;溅射镀膜速度快,膜层致密,附着性好等特点,很适合于大批量,高效率工业牛产。近年来磁控溅射技术发展很快,具有代表性的方法有射频溅射、反应磁控溅射、非平衡磁控溅射、等离子体加强磁控溅射,脉冲磁控溅射、高速溅射等。(1)平衡磁控溅射平衡磁控溅射即传统的磁控溅射,是在阴极靶材背后放置芯部与外环磁场强度相等或相近的永磁体或电磁线圈,在靶材表Mi形成与电场方向垂直的磁场。沉积室充入一处量的工作气体,通常为Ar,在高压作用下Ar原了电离成为Ar+离子和电子,产牛辉光放电...

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