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  • 下摆机精磨抛光工艺标准

    文件名称下摆机研磨工艺作成制定时间审核/.版次第一版批准一、目的:光学零件的抛光是获得光学表面最重要的工序。1、去除精磨的破坏层达到规定的外观质量要求。2、精修面形,达到图纸规定的曲率半径R值,并满足零件光圈数N及光圈局部误差△N的要求。二、抛光机理:认为抛光是精磨的继续,它们从本质上是相同的,都是尖硬的磨料颗粒对玻璃表面进行微小切削作用的结果。但由于抛光是用很细颗粒的抛光剂。所以微小切削作用可以在分...

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