纳米一微米复合图形化衬底和其在半导体异质外延上应用摘要:报道了一种新型的纳米微米复合的蓝宝石图形化衬底,采用dipcoating的方法在微米级Si02半球阵列表面静电自组装一层Si02纳米球,形成了适合纳米范围选择性生长的区域。研究发现,该复合结构的制备过程与后续外延的工艺兼容。经封装后,在复合图形衬底上制造的LED芯片,其所测试的光通量比未添加Si02纳米颗粒的微米图形衬底制造的LED光通量提高57%左右,而光输出功率则提...
半导体衬底材料项目风险管理方案目录第一章项目背景分析3一、产业环境分析3二、行业面临的挑战7三、必要性分析7第二章风险管理方案9一、风险识别方法9二、风险分析概述14三、对待风险的态度和行为15四、衡量对待风险的态度16五、纯粹风险概念18六、责任损失度量19七、人力资本损失度量23八、风险的基本分类28九、纯粹风险的分类29十、风险管理的目标30十一、风险管理的定义32十二、风险的特征34十三、风险的含义35-...
磁控溅射制备柔性衬底ZnO:Ga透明导电膜微结构及性能研究第28卷第11期21XI7年11月太阳台旨ACTAENERGIAESOLARISSI』ⅥCANov.,933O7磁控溅射制备柔性衬底ZnO:Ga透明导电膜微结构及性能研究李素敏,赵玉涛,张钊(江苏大学材料科学与工程学院,镇江212013)摘要:室温条件下,采用磁控溅射法在有机柔性衬底聚酰亚胺(PI)表面制备出ZnO:Ga透明导电膜,XRD表明ZnO:Ga薄膜为六角纤锌矿结构的多晶薄膜.研究了溅射功率,氩气分压,溅射时间及衬底负...