电子束光刻制备5000line_mm光栅掩模关键技术研究_朱效立收稿日期:20220310;修订日期:20220326基金项目:国家基础科学重大研究计划资助项目(2007CB935302);国家高技术发展计划863项目资助(2006AA03Z355)作者简介:朱效立(1977-),男,山东定陶人,博士研究生,主要研究方向为高线密度X-EUV透射光栅研制、电子束光刻和X射线光刻技术;谢常青(1971-),男,广西浦北人,研究员,主要研究方向为衍射光学元件和先进纳米加工技术;赵珉(1975-),女,...
